Tenký film na potaženém terči má tvar speciálního materiálu.V konkrétním směru tloušťky je měřítko velmi malé, což je mikroskopicky měřitelná veličina.Navíc kvůli vzhledu a rozhraní tloušťky filmu končí kontinuita materiálu, díky čemuž data filmu a cílová data mají různé společné vlastnosti. A cílem je hlavně použití magnetronového naprašovacího povlaku, editor Beijing Richmat nás vezme k pochopení princip a dovednosti naprašování.
一、Princip naprašování
Rozprašovací povlak dovedností je použití iontového ostřelování terče vzhled, atomy cíle jsou zasaženy z jevu známého jako naprašování.Atomy usazené na povrchu substrátu se nazývají rozprašovací povlak. Ionizace plynu je obecně produkována výbojem plynu a kladné ionty bombardují katodový terč vysokou rychlostí působením elektrického pole a odrážejí atomy nebo molekuly katodový terč a letí na povrch substrátu, který má být nanesen do filmu. Jednoduše řečeno, naprašovací povlak využívá nízkotlaký doutnavý výboj inertního plynu k vytváření iontů.
Obecně je zařízení pro pokovování naprašovacím filmem vybaveno dvěma elektrodami ve vakuové výbojové komoře a katodový terč se skládá z údajů o povlaku.Vakuová komora je naplněna plynným argonem o tlaku 0,1~10Pa.Doutnavý výboj vzniká na katodě působením záporného vysokého napětí 1~3kV stejnosměrného nebo vysokofrekvenčního napětí 13,56mhz. Ionty argonu bombardují povrch terče a způsobují, že se atomy rozprašované terče hromadí na substrátu.
二、 Vlastnosti schopnosti nanášení naprašováním
1、Rychlá rychlost stohování
Rozdíl mezi vysokorychlostní magnetronovou naprašovací elektrodou a tradiční dvoustupňovou naprašovací elektrodou je v tom, že magnet je uspořádán pod terčem, takže uzavřené nerovnoměrné magnetické pole se vyskytuje na povrchu terče. Lorentzova síla na elektrony směřuje do středu heterogenního magnetického pole.Kvůli zaostřovacímu efektu elektrony méně unikají.Heterogenní magnetické pole prochází kolem cílového povrchu a sekundární elektrony zachycené v heterogenním magnetickém poli se opakovaně srážejí s molekulami plynu, což zlepšuje vysokou rychlost konverze molekul plynu. Proto vysokorychlostní magnetronové naprašování spotřebovává nízkou energii, ale může získat velkou účinnost povlaku s ideálními charakteristikami výboje.
2、 Teplota substrátu je nízká
Vysokorychlostní magnetronové naprašování, známé také jako nízkoteplotní naprašování.Důvodem je to, že zařízení využívá výboje v prostoru elektromagnetických polí, která jsou na sebe napřímená.Sekundární elektrony, které se vyskytují na vnější straně cíle, v sobě navzájem.Působením přímého elektromagnetického pole je vázán v blízkosti povrchu cíle a pohybuje se po dráze v kruhové valivé linii, opakovaně naráží na molekuly plynu, aby molekuly plynu ionizoval. Společně samotné elektrony postupně ztrácejí svou energii prostřednictvím opakované nárazy, dokud se jejich energie téměř úplně neztratí, než mohou uniknout z povrchu cíle poblíž substrátu.Protože energie elektronů je tak nízká, teplota cíle nestoupá příliš vysoko.To stačí k tomu, aby se zabránilo nárůstu teploty substrátu způsobenému vysokoenergetickým elektronovým ostřelováním obyčejné diody, která dokončí kryogenizaci.
3、Široká škála membránových struktur
Struktura tenkých filmů získaných vakuovým napařováním a vstřikováním je zcela odlišná od struktury získané zředěním sypkých látek.Na rozdíl od obecně existujících pevných látek, které jsou klasifikovány jako v podstatě stejné struktury ve třech rozměrech, jsou filmy usazené v plynné fázi klasifikovány jako heterogenní struktury. Tenké filmy jsou sloupcové a lze je zkoumat rastrovací elektronovou mikroskopií.Sloupovitý růst filmu je způsoben původním konvexním povrchem substrátu a několika stíny v prominentních částech substrátu.Avšak tvar a velikost sloupce jsou zcela odlišné v důsledku teploty substrátu, povrchové disperze naskládaných atomů, pohřbívání atomů nečistot a úhlu dopadu atomů vzhledem k povrchu substrátu.V nadměrném teplotním rozsahu má tenký film vláknitou strukturu, vysokou hustotu, složenou z jemných sloupcových krystalů, což je jedinečná struktura naprašovacího filmu.
Tlak naprašování a rychlost stohování fólie také ovlivňují strukturu fólie.Protože molekuly plynu mají vliv na potlačení disperze atomů na povrchu substrátu, je efekt vysokého rozprašovacího tlaku vhodný pro pokles teploty substrátu v modelu.Proto lze při vysokém tlaku naprašování získat porézní filmy obsahující jemná zrna.Tento film s malou zrnitostí je vhodný pro mazání, odolnost proti opotřebení, povrchové zpevnění a další mechanické aplikace.
4、Urovnejte složení rovnoměrně
Sloučeniny, směsi, slitiny atd., které se vhodně obtížně potahují vakuovým napařováním, protože tenze par složek jsou různé nebo protože se při zahřívání liší. Metoda nanášení naprašováním spočívá v vytvoření cílové povrchové vrstvy atomů vrstvu po vrstvě k substrátu je v tomto smyslu dokonalejší filmařská dovednost.V průmyslové výrobě nátěrů naprašováním lze použít všechny druhy materiálů.
Čas odeslání: 29. dubna 2022