Vakuové potahování se týká zahřívání a odpařování zdroje odpařování ve vakuu nebo rozprašování se zrychleným bombardováním ionty a jeho ukládání na povrch substrátu za vzniku jednovrstvého nebo vícevrstvého filmu.Jaký je princip vakuového lakování?Dále nám jej představí redaktor RSM.
1. Povlak na vakuové napařování
Odpařovací nátěr vyžaduje, aby vzdálenost mezi molekulami nebo atomy páry od zdroje odpařování a substrátu, který má být potažen, byla menší než průměrná volná dráha molekul zbytkového plynu v potahovací místnosti, aby se zajistilo, že molekuly páry odpařování může dosáhnout povrchu substrátu bez kolize.Ujistěte se, že je film čistý a pevný a že odpařování nebude oxidovat.
2. Vakuové naprašování
Ve vakuu, kdy se urychlené ionty srazí s pevnou látkou, dojde na jedné straně k poškození krystalu, na druhé straně ke srážce s atomy tvořícími krystal a nakonec k atomům nebo molekulám na povrchu pevné látky. prskat ven.Naprašovaný materiál se nanáší na substrát za vzniku tenkého filmu, který se nazývá vakuové naprašování.Existuje mnoho metod naprašování, z nichž první je naprašování diod.Podle různých katodových cílů ji lze rozdělit na stejnosměrný proud (DC) a vysokofrekvenční (RF).Počet atomů rozprášených dopadem na povrch cíle iontem se nazývá rychlost rozprašování.Při vysoké rychlosti naprašování je rychlost tvorby filmu vysoká.Rychlost rozprašování souvisí s energií a typem iontů a typem materiálu terče.Obecně řečeno, rychlost naprašování se zvyšuje s nárůstem energie lidských iontů a rychlost naprašování drahých kovů je vyšší.
Čas odeslání: 14. července 2022