Cíl má mnoho efektů a prostor pro rozvoj trhu je velký.Je velmi užitečný v mnoha oblastech.Téměř všechna nová rozprašovací zařízení používají silné magnety ke spirálovému elektronu, aby se urychlila ionizace argonu kolem cíle, což má za následek zvýšení pravděpodobnosti srážky mezi cílem a ionty argonu.Nyní se podívejme na roli naprašovacího terče ve vakuovém nanášení.
Zlepšete rychlost rozprašování.Obecně se DC naprašování používá pro potahování kovů, zatímco RF AC naprašování se používá pro nevodivé keramické magnetické materiály.Základním principem je použití doutnavého výboje k zasažení argonových (AR) iontů na povrchu terče ve vakuu a kationty v plazmatu se zrychlí, aby spěchaly na povrch negativní elektrody jako rozstřikovaný materiál.Tento náraz způsobí, že materiál terče vyletí ven a uloží se na substrát za vzniku filmu.
Obecně řečeno, existuje několik charakteristik nanášení filmu procesem naprašování: (1) kov, slitina nebo izolant mohou být vyrobeny z filmu.
(2) Za vhodných podmínek nastavení může být film se stejným složením vyroben z více a neuspořádaných cílů.
(3) Směs nebo sloučeninu materiálu terče a molekul plynu lze vyrobit přidáním kyslíku nebo jiných aktivních plynů do atmosféry výboje.
(4) Cílový vstupní proud a dobu rozprašování lze řídit a je snadné získat vysoce přesnou tloušťku filmu.
(5) Ve srovnání s jinými procesy napomáhá výrobě velkoplošných stejnoměrných fólií.
(6) Naprašované částice jsou téměř neovlivněné gravitací a polohy terče a substrátu mohou být uspořádány volně.
Čas odeslání: 17. května 2022